原硅酸电离方程式

原硅酸电离方程式

H2SiO4 = (HSiO4)+ + H+

硅酸,化学式为H2SiO3。是一种弱酸,它的盐在水溶液中有水解作用。游离态的硅酸,包括原硅酸(H4SiO4)、偏硅酸(H2SiO3)、二硅酸 (H2Si2O5),酸性很弱。偏硅酸的电离平衡常数K1=2*10(室温),正硅酸在PH=2~3的范围内是稳定的,不过若将过饱和的H4SiO4 溶液长期放置,会有无定形的二氧化硅沉淀,为乳白色沉淀,并以胶态粒子、沉淀物或凝胶出现

硅酸(Silicic acid)别名含水二氧化硅、矽酸,化学式为H2SiO3,是一种弱酸。硅酸盐在水溶液中有水解作用。游离态的硅酸,包括原硅酸(H4SiO4)、偏硅酸(H2SiO3)、二硅酸 (H2Si2O5),酸性很弱。

实验室采用水玻璃(硅酸钠)和盐酸反应或者硅酸钠和二氧化碳和水反应制得硅酸胶体。

化学方程式:Na2SiO3+2HCl=2NaCl+H2SiO3↓。

电离平衡常数:K1=2.2*10-10(30℃)。

工业制法:

1、盐酸法将细孔球形硅胶用盐酸浸泡4~6h后用纯水洗涤,烘干72h以上,用纯水洗涤后,再在70~80℃二次烘干,制得硅酸。

2、在硅酸钠溶液中加入酸与电解质,搅拌下反应生成硅酸凝胶,再经老化、洗涤、干燥、活化制得硅胶。不同的原料配比及工艺条件可制得不同规格的产品。

3、在硅酸钠溶液中加入酸及一定量电解质,在搅拌下反应生成硅酸凝胶,再经老化、洗涤干燥活化制得硅胶。采用不同原料配比及工艺条件可制得不同规格的产品。