1. 用電子束（E-beam Lithography），好處是精度極高，目前實驗室級別的E-beam最小可以寫到1納米，不需要Mask。但是因為精度高，所以寫片子的時候速度會很慢。。2. Micro-printing（類似於刻字印刷那種樣子~），不是太瞭解，實驗室不怎麼用這個，精度貌似不是很好3. 激光（Laser Lithography），好處是不需要Mask，直接往Resist上寫，因為精度不如e-beam好，所以pattern都比較大，因此速度快。
