其基本原理是利用化学感光材料的光敏特性， 在基体金属基片两面均匀涂敷感光材料采用光刻方法， 将胶膜板上栅网产显形状精确地复制到金属基片两面的感光层掩膜上通过显影去除未感光部分的掩膜， 将裸露的金属部分在后续的加工中与腐蚀液直接喷压接触而被蚀除， 最终获取所需的几何形状及高精度尺寸的产品技术蚀刻技术蚀刻一共有两大类：1：干式蚀刻 2:湿式蚀刻。
