炉管在半导体中的应用

炉管（furnace）半导体制程中广泛的应用炉管：炉管的内层会套入一个透明的石英管，石英管外圈是电阻式加热线圈环绕，石棉隔热，最外层为不锈钢。管内有三个热电偶，分别测量前、中，后三个区域的温度。

气体输送装置：由手动阀、微粒过滤器、压力调节器、气动阀、流量控制器等组成。

炉管在半导体中的应用

炉管（furnace）半导体制程中广泛的应用于diffusion、drive-in、oxidation、deposition，annealing和sintering制程。设备分为水平式和垂直式两种。

水平式炉管，wafer放置在石英晶舟（Quartz Boat）上，且石英晶舟又放在SiC做的承载架（paddle）上，且前后会有适应挡板。

承载架推进石英炉管中，wafer在恒温区进行反应。结束后wafer也会缓慢拉出，避免馆内外温度差造成wafer弯曲or破裂。

垂直式炉管，wafer在石英塔架上，然后缓慢上升到石英炉管内进行制程，反应晚也需要缓慢降下，防止弯曲or破裂。