说起光刻机，它是制造芯片的核心设备，目前全球各种类光刻机市场主要被荷兰的ASML、日本尼康和佳能三大巨头所垄断，其中只有荷兰ASML能生产全球最先进的EUV光刻机。那么下面来详细了解一下光刻机最小多少纳米？光刻机是多少个国家的技术？
光刻机最小多少纳米
3纳米。
光刻机的种类ASML光刻机种类最齐全，是全球唯一可生产EUV光刻机的公司，制程最小可达3纳米。
光刻机是多少个国家的技术？
两个。
目前全世界能够制造EUV光刻机的国家只有两个，荷兰和日本。虽然美国同样没有光刻机的制造技术，但考虑到荷兰与日本同美国的同盟关系，英法两国又是西方阵营里的欧洲强国，实际上只有中俄被排除在EUV光刻机俱乐部以外。
光刻机的作用和用途：
光刻机是用来制造芯片的。光刻机又被称为掩膜对准曝光机，在芯片生产中用来光刻工艺，而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备。
光刻机决定了芯片的精密尺寸，设计师设计好芯片线路，再通过光刻机将线路刻在芯片上，其尺度通常在微米级以上。
光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备，因为其决定了一块芯片的整体框架与功能。
其实生产高精度芯片并不难，只是生产速度太慢，而光刻机能快速生产高精度的芯片，所以很重要。
光刻机为什么中国做不出来？
1，光刻机是一种复杂的高端装备，需要多种技术的高度融合，包括光学、机械、电子、材料等领域。光刻机的制造涉及到光源、光学系统、机械系统、控制系统等多个方面。这些方面的技术需要全方位的支持和配合，而不同领域之间的协同并不容易实现。即便是发达的半导体产业国家，制造光刻机也需要依赖国际上的厂商，其自主研发的比例也较低。
2，光刻机涉及到的技术难点较多，难度也较大。例如，光刻机需要实现高分辨率的图案映射，需要控制光束的聚焦精度、光源的波长稳定性、掩模的制造等多方面的因素。此外，光刻机还需要处理光刻胶、对硅片进行清洗、控制温度等多方面的技术难点。因此，制造光刻机需要多个领域的技术支持，这也增加了光刻机的研发难度和制造成本。
3，光刻机产业的竞争已经十分激烈，全球范围内只有几家厂商占据着市场的主导地位。这些厂商不仅在技术上具有巨大的优势，而且在产业链上具有很强的整合能力。这些厂商的垄断地位也让其他厂商很难进入市场，更难以在市场上建立品牌和口碑。对于中国企业来说，要想在这个领域里迅速崛起并非易事。
